На главную



БУДЬТЕ ВНИМАТЕЛЬНЫ!

В последнее время нам приходится сталкиваться с использованием нашей номенклатуры электродов (а также порошковых и цельнотянутых проволок) другими поставщиками сварочных материалов!

подробнее »

Ремонт трещины бандажа обжиговой печи

 подробнее »

Восстановление элементов ОПУ

 подробнее »

Ремонт ротора турбины ГТТ-3М

 подробнее »

Ремонт трещины массивного термоконтейнера горизонтального пресса

 подробнее »

Восстановление посадочного места приводной шейки прокатного валка

 подробнее »

Новая линейка материалов для технологий аддитивного производства

Порошки серии AMPERPRINT от H.C.Starck

подробнее »





Материалы | Аддитивные технологии

Материалы для технологий аддитивного производства

Порошки H.C.Starck для аддитивных технологий производстваС момента зарождения в области быстрого прототипирования популярность аддитивных технологий стремительно возросла в каждой отрасли промышленности – и бум в 3D-печати продолжается до сих пор. Без сомнения: аддитивные технологии открывают абсолютно новые возможности, такие как впечатляющая свобода дизайна, улучшенные характеристики деталей, а также более короткие циклы разработки.

Компания САБАРОС является официальным дистрибьютером H.C.Starck, разработавшей серию высококачественных порошков AMPERPRINT специально с учетом комплексных требований технологий аддитивного производства. Для получения оптимальных результатов порошки AMPERPRINT на основе никеля, кобальта и железа имеют плотную структуру, отличную текучесть, сферическую форму и превосходную воспроизводимость.

Помимо широкого выбора стандартных сплавов каталог H.C.Starck включает в себя различные решения, специально разработанные под конкретные требования заказчика. После получения порошка, соответствующего требованиям заказчика, мы готовы поставить любое количество материала вплоть до крупных промышленных партий.

Для производства высококачественных компонентов различные технологии аддитивного производства имеют различные требования к материалам. Порошки H.C.Starck доступны в широком диапазоне размеров частиц для всех процессов аддитивного производства, включая, но не ограничиваясь селективным лазерным плавлением, электронно-лучевым плавлением и лазерной наплавкой.

На основе кобальта

AMPERPRINT 0037 CoCrMo
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
✔ ✔ ✔ Cr 27.0 30.0 Ti   0.10
Mo 5.0 7.0 C   0.02
Si   1.0 P   0.02
Mn   1.0 B   0.01
Fe   0.75 S   0.01
W   0.20 O   0.25
Ni   0.10 N   0.25
Al   0.10 Co основа

На основе никеля

AMPERPRINT 0153 Ni-SA 625 (Inconel 625)
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔ ✔
 ✔ Cr 20.0 23.0 Mn   0.10
Mo 8.0 10.0 C   0.05
Nb
 3.15 4.15 Ta   0.05
Fe
   2.5 P   0.03
Co
   1.0 S   0.015
Si
   0.50 B   0.01
Cu
   0.50 O   0.025
Ti   0.40 N   0.025
Al   0.40 Ni основа

 

AMPERPRINT 0181 Ni-SA 718 (Inconel 718)
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔ ✔
✔
Cr 17.0 21.0 Mn   0.35
Nb 4.75 5.50 Cu   0.30
Mo 2.8 3.3 Ta   0.05
Ti 0.6 1.2 P   0.015
Al 0.2 0.8 S   0.015
C 0.02 0.08 B   0.006
Co   1.0 O   0.030
Si   0.35 N    0.025
      Ni основа

 

AMPERPRINT 0151 Ni-SA 738 LC
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔ ✔
 ✔ Cr 15.7 16.3 B  0.007 0.012
Co 8.0 9.0 Fe   0.50
Al 3.2 3.7 Mn   0.20
Ti 3.2 3.7 Si   0.10
W 2.4 2.80 S   0.015
Mo 1.5 2.0 P   0.015
Ta 1.5 2.0 O   0.030
Nb 0.6 1.10 N   0.020
C 0.06 0.13      
Zr 0.015 0.08 Ni основа

 

AMPERPRINT 0221 Ni-SA 247 LC
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
✔ ✔
✔ W 9.3 9.7 Fe   0.20
Co 9.0 9.5 Cu   0.10
Cr 8.0 8.5 Mn   0.10
Al 5.3 5.8 Si   0.20
Ta 3.0 3.4 P   0.015
Hf 1.2 1.6 S   0.010
Ti 0.6 0.9 H   0.005
Mo 0.4 0.6 O   0.020
C 0.05 0.1 N   0.020
B 0.01 0.02  
Zr 0.005 0.020 Ni основа

 

AMPERPRINT 0233 Haynes® 282
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔  ✔ ✔
Cr 18.0 22.0 Si   0.20
Co 9.0 11.0 P   0.015
Mo 8.0 9.0 S   0.015
Ti 1.9 2.3 B   0.010
Al 1.3 1.7 O   0.030
C 0.04 0.08 N   0.020
Fe   1.5      
Mn   0.30 Ni основа

 

AMPERPRINT 0228 NiCrFeMo (HX)
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
✔
 ✔  ✔ Cr 20.5 23.0 Al   0.50
Fe 17.0 20.0 Ti   0.50
Mo 8.0 10.0 S   0.015
Co 0.5 2.5 P   0.015
W 0.2 1.0 B   0.009
C 0.05 0.10 O   0.030
Si   1.0 N   0.020
Mn   1.0 Ni основа

На основе железа

AMPERPRINT 1556 FeNiCoMo (18Ni30, 1.2709)
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔  ✔ ✔
Ni
 17.0
 19.0
 C
   0.03
Co
 8.5
 10.0
 P
   0.010
Mo
 4.50
 5.20
 S
   0.010
Ti
 0.50
 1.00
 O
   0.035
Al
 0.05
 0.15
 N
   0.02
Mn
0.15
 
Si
0.10
 Fe Основа

 

AMPERPRINT 0717 316L
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔  ✔ ✔
Cr
 16.5
 18.5
 P
0.045
Ni
 10.0
 14.0
 S
0.015
Mo
 2.0
 3.0
 O
0.05
Mn
 0.15
 2.0
 N
0.03
Si
1.0


C
   0.03
 Fe основа

 

AMPERPRINT 0742 15-5 PH
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
 ✔ ✔
 ✔ Cr
 14.0
 15.5
 C
   0.07
Ni
 3.50
 5.50
 P
   0.04
Cu
 2.50
 4.50
 S
   0.03
Nb
 0.15
 0.45
 O
   0.06
Mn
1.00
 N
   0.03
Si
1.00
 Fe основа

 

AMPERPRINT 0711 17-4 PH
Процесс Хим. состав
Селективное лазерное плавление Электронно-лучевое плавление Лазерная наплавка Элемент Мин Макс Элемент Мин Макс
✔
 ✔  ✔ Cr
 15.0
 17.5
 C
0.07
Ni
 3.00
 5.00
 P
0.040
Cu
 3.00
 5.00
 S
0.030
Nb+Ta
 0.15
 0.45
 O
0.06
Mn
1.00
 N
0.02
Si
1.00
 Fe основа
Сайт компании Сабарос